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  • 低溫制冷循環(huán)水溫機
    低溫制冷循環(huán)水溫機

    更新時間:2023-11-17

    型號:

    瀏覽量:20906

    低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產用設備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器:原子吸收、質譜儀、旋光儀。 醫(yī)療設備:降溫毯。工業(yè)設備及激光設備: 生物制藥。 科學實驗設備:分子泵旋轉蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
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  • QR-25W智能低溫恒溫槽
    QR-25W智能低溫恒溫槽

    更新時間:2023-11-17

    型號:QR-25W

    瀏覽量:3220

    智能低溫恒溫槽產品說明:采用機械全封閉制冷降溫速度快,控溫精度準。壓縮機高低壓,壓縮機過熱,電流負載等多重保護確保安全可靠。
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  • -40℃~30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備
    -40℃~30℃低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備

    更新時間:2023-11-17

    型號:-40℃~30℃

    瀏覽量:5809

    低溫制冷循環(huán)器搪瓷反應釜配套設備,低溫制冷循環(huán)器采用全密閉設計,低溫運行過程無吸水,保證冷導熱介質的純度,防止冰晶,提供導熱液壽命。高性能循環(huán)泵,可保證每天連續(xù)24小時運行。
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  • LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機
    LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-20A

    瀏覽量:2548

    制冷循環(huán)低溫冷凍機半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-145低溫制冷循環(huán)器
    LX-145低溫制冷循環(huán)器

    更新時間:2023-11-17

    型號:LX-145

    瀏覽量:6813

    低溫制冷循環(huán)器使用范圍:對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
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  • LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵
    LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

    更新時間:2024-01-18

    型號:LX-0250

    瀏覽量:3339

    低溫冷卻循環(huán)器泵采用阿斯帕拉、丹弗斯、美優(yōu)樂、谷輪等品牌壓縮機,性能穩(wěn)定,可持續(xù)工作,微電腦溫度控制器,溫度數(shù)字顯示,調節(jié)單位0.1度,溫度范圍5度~35度可調。
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  • 制冷循環(huán)冷水機
    制冷循環(huán)冷水機

    更新時間:2023-11-17

    型號:

    瀏覽量:6707

    制冷循環(huán)冷水機使用范圍:對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻:
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  • LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵
    LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

    更新時間:2024-01-18

    型號:LX-70

    瀏覽量:2125

    LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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